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进口晶圆清洗机用于先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的z大化支持z理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。
进口晶圆清洗机选配项：
掩模版或晶圆片夹具
PVA软毛刷清洗（100RPM）
化学试剂清洗(CDU)
氮气离子发生器
CMP后的刷子清洗（可高达400RPM）
背面去离子水清洗和干燥
CO2注入，带DIW电阻率监测单元
用于DIW或hua'xue'shi'ji化学试剂的内嵌式加热器
化学液补满传感器
FM4910材料
25片casssette机械手自动上下片
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