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微波等离子去胶机

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单价: 580.00
品牌: 未填写
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更新: 2022-03-29
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公司基本资料信息
 
     微波等离子去胶机是一款低压微波等离子系统,用于键合、模塑、焊锡球黏合前的先进芯片封装清洗,以及倒装芯片清洗。Astro96是全自动等离子系统,待处理的基片通过magzine Buffer载入,清洗完成后放回同一个Magzine Buffer。
    微波等离子去胶机技术参数:
    腔体:铝
    容积:16.6公升
    尺寸:宽度330毫米×深度420毫米x120毫米
    腔室门:腔体下开门结构
    微波源:2.45GHz,可调50-600W
    气体进气:3路数字显示的质量流量器控制,气体分布系统位于工艺腔体内部
    观察视窗:52.5mm玻璃,防紫外和RF
    真空计: Pirani,1-1000Pa
    真空系统:DN 40 ISO-KF
    真空阀:电动气动阀
    设备尺寸:1635毫米x1405毫米x2265毫米
    片匣导轨传送系统:
    全自动,无堵赛设计,集成到等离子主系统
    片匣通过2层传送带上下载片,提前上载或下载片
    通过使用可更换的输送板,搬运系统可以支持较大范围的基片尺寸、框架、舟等
    片匣尺寸:z大124mm宽,60-200mm高,110-320mm长,配套片匣传感器来识别
    框架进/出:框架在同一个片匣和同一个槽实现进/出(标准配置)
    框架进/出:框架在不同的片匣和相同/不同的槽实现进/出(可选)
    堵塞检测系统带有可调节的推/拉力控制,并通过软件实现具体的堵塞水平控制,以避免框架损坏
    支持手动模式,单次工序
    UPH(框架/小时):360~900,取决于框架尺寸和等离子工艺
    系统控制:
    PC, Windows, RS 232, USB, Ethernet (也适用于远程控制)
    19”触摸屏、图形用户界面
    Windows Office兼容
    存储处理数据和错误信息,处理数据输出
    工艺参数图形曲线的 监测
    自动或手动操作
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