微波等离子去胶机技术参数:
腔体:铝
容积:16.6公升
尺寸:宽度330毫米×深度420毫米x120毫米
腔室门:腔体下开门结构
微波源:2.45GHz,可调50-600W
气体进气:3路数字显示的质量流量器控制,气体分布系统位于工艺腔体内部
观察视窗:52.5mm玻璃,防紫外和RF
真空计: Pirani,1-1000Pa
真空系统:DN 40 ISO-KF
真空阀:电动气动阀
设备尺寸:1635毫米x1405毫米x2265毫米
片匣导轨传送系统:
全自动,无堵赛设计,集成到等离子主系统
片匣通过2层传送带上下载片,提前上载或下载片
通过使用可更换的输送板,搬运系统可以支持较大范围的基片尺寸、框架、舟等
片匣尺寸:z大124mm宽,60-200mm高,110-320mm长,配套片匣传感器来识别
框架进/出:框架在同一个片匣和同一个槽实现进/出(标准配置)
框架进/出:框架在不同的片匣和相同/不同的槽实现进/出(可选)
堵塞检测系统带有可调节的推/拉力控制,并通过软件实现具体的堵塞水平控制,以避免框架损坏
支持手动模式,单次工序
UPH(框架/小时):360~900,取决于框架尺寸和等离子工艺
系统控制:
PC, Windows, RS 232, USB, Ethernet (也适用于远程控制)
19”触摸屏、图形用户界面
Windows Office兼容
存储处理数据和错误信息,处理数据输出
工艺参数图形曲线的 监测
自动或手动操作
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